GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
| 型號 | |
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| 更新時間 | 2020-06-19 |
| 訪問次數(shù) | 1927 |
GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置性能特點
1、分三個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。
2、快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。
3、溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。
4、全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中的水分，可延長導熱流體的使用壽命。
5、高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。
6、制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。
7、液位顯示功能，隨時監(jiān)控液位，避免缺液。
8、高溫切斷、急停、延時、漏電、過電流、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。
9、冷凝、預冷方式為風冷，節(jié)約水資源。
高低溫循環(huán)裝置典型應用
1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。
2、攪拌罐的溫度控制。
3、材料測試中的應用。
4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。
6、恒溫控制系統(tǒng)。
7、半導體設備的溫度控制。
8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。
9、真空室的溫度控制。
高低溫循環(huán)裝置技術參數(shù)
基 本 參 數(shù) | 型號 | GDZT-100-200-40 | |
儲液槽容積（L） | 30 | ||
加熱容積（L） | 3 | ||
加熱罐尺寸(mm) | ￠90×480 | ||
油箱尺寸(mm) | 450×150×450 | ||
使用溫度范圍（℃） | -40-200 | ||
環(huán)境溫度（℃） | ≤25℃ | ||
環(huán)境相對濕度（℃） | ≤60 | ||
空載zui低溫度 | -40℃ | ||
電源 | 380V±10% 50HZ | ||
加熱功率（W) | 12000 | ||
制冷量（KW) | 200℃ | 3 | |
10℃ | 18 | ||
-10℃ | 12 | ||
-20℃ | 7.3 | ||
-30℃ | 4.0 | ||
-40℃ | 1.7 | ||
儀表控溫范圍 | -100℃-400℃ | ||
導熱介質(zhì)溫控精度（℃） | ±0.5 | ||
反應物料溫控精度（℃） | ±1 | ||
傳感器 | PT100 | ||
介 質(zhì) 粘 度 | 500C.S.T | ||
循環(huán)泵功率（w） | 280 | ||
揚程（m) | 10 | ||
流量（L/min） | 35 | ||
壓力（Mpa） | 4 | ||